Herstellung und die Prüfung der Masken

01.10.2003

BERLINER GLAS unterstützt als Hersteller elektrostatischer Chucks (Halter) für vielfältige Anwendungen die Entwicklung von Standards für die Lithografie im extremen UV (EUVL).
Für diesen Bereich ist insbesondere der SEMI Standard 3419 sehr vielversprechend.

Ziel des Standards ist es, die die Herstellung und die Prüfung der Masken sowie ihre Anwendung in der Lithografie mit einem einheitlichen elektrostatischen Chuck ermöglichen. Dadurch werden die Kosten insbesondere für relativ geringe Produktions-Stückzahlen erheblich reduziert.

Das technische Know-how von Berliner Glas ermöglicht in diesem Zusammenhang eine Planität von z.B. 20 nm Peak to Valley über eine Fläche von 150x150 mm. Diese Planität wird durch den Einsatz computergestützter Poliertechniken oder der Ionenstrahlbearbeitung erreicht.

Das für Chucks verwendete Material besitzt je nach Anwendung entweder einen dem gehaltenen Material (z.B. Silizium) angepassten thermischen Ausdehnungskoeffizienten oder ist auf geringste thermische Ausdehnung optimiert. Bei Bedarf kann eine mechanische Stabilisierung durch angefügte Leichtgewichtsstrukturen erfolgen.

Darüber hinaus sind Techniken verfügbar, um Heizungen oder Kühlungen in den Chuck zu integrieren. Strukturierte Elektroden gestatten die Ausbildung uni-polarer und multi-polarer elektrostatischer Chucks.

EUVL-Chucks mit dem Know-how von BERLINER GLAS